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鍍碳儀Ted Pella 108C

Ted Pella 108C是用于掃描電鏡能譜分析的小型桌面型鍍碳儀。

描述

Ted Pella 108C是用于掃描電鏡能譜分析的小型桌面型鍍碳儀。

主要特性

l??獨(dú)特的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚大約20nm左右進(jìn)行多次蒸發(fā),無須切削或調(diào)整碳棒形狀。

l??108C中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。該鍍膜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊,容易操作,抽真空周期短。選件MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀可以精確地得到所需的碳膜厚度。

l??使用新型的蒸發(fā)裝置:電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控,蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低,碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過脈沖或連續(xù)的方式操作。

l??可選擇手動(dòng)或自動(dòng)方式操作。

l??自動(dòng)模式下,蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時(shí)間進(jìn)行噴鍍。手動(dòng)模式下,獨(dú)特的設(shè)計(jì)允許以脈沖或連續(xù)的方式操作,并通過旋鈕控制輸出電壓。

l??可配備MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀(選件)。分辨率優(yōu)于0.1nm。在15nm至25nm的碳膜厚度范圍內(nèi),重現(xiàn)性可優(yōu)于5%。

技術(shù)參數(shù)
樣品室大小直徑120 x 120mm?高?(4.75 x 4.75″)
蒸發(fā)源Bradley型?(6.15mm ? rods),高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)
蒸發(fā)控制基于微處理器的反饋回路控制,能夠進(jìn)行遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng),基于真空水平變量的安全互鎖功能,最大電流180A,提供過流保護(hù)
樣品臺(tái)可裝置12個(gè)樣品座,高度在30mm范圍內(nèi)可調(diào)
?模擬計(jì)量真空: atmos – 0.001mb;?電流: 0-200A
厚度監(jiān)控MTM-10?高分辨膜厚監(jiān)控儀(選件)
控制方法自動(dòng)蒸發(fā)控制,使用程序設(shè)定的電壓和時(shí)間

以脈沖或連續(xù)方式進(jìn)行完全手動(dòng)控制

數(shù)字定時(shí)器(0-10s)

數(shù)字電壓設(shè)置(0.1 to 6.0V)

真空系統(tǒng)
真空泵2級(jí)直連式高速真空泵
抽氣速率100L/MIN
極限真空≤1 x 10-3?Torr
噪音50dB

這將關(guān)閉于 120