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JYSC-1000鍍膜儀(離子濺射儀)

此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜(如金膜)或材料鍍膜,儀器性能穩(wěn)定,操作簡單方便。采用磁控冷態(tài)濺射,基本不升溫,保護(hù)樣品。

描述

此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜(如金膜)或材料鍍膜,儀器性能穩(wěn)定,操作簡單方便。采用磁控冷態(tài)濺射,基本不升溫,保護(hù)樣品。

主要特點:

  • 真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;
  • 微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準(zhǔn)確,帶有刻度標(biāo)識;
  • 真空泵抽速快,噪音低,適合實驗室使用;
  • 控制電路為控制板,工作穩(wěn)定可靠;
  • 磁控冷態(tài)濺射,基本不升溫,保護(hù)樣品;

技術(shù)參數(shù):

  1. 真空室:Φ150mm,高度110mm;
  2. 試樣臺尺寸:Φ60mm,
  3. 金靶尺寸:Φ50mm;
  4. 真空系統(tǒng):抽速8m3/h;
  5. 真空檢測:定制皮氏計,配合真空指針表,靈敏可靠;
  6. 排氣方式:自動;
  7. 濺射時間:0-1000秒可連續(xù)設(shè)置。
  8. 真空室工作氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進(jìn)氣口和微量充氣節(jié);
  9. 可使用多種金屬靶材:Au,Au/Pd,Pt,Pt/Pd,Cu,Ag等,靶材更換快速方便
  10. 主機(jī)尺寸:約450×330×235mm

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